客戶定制款SPT-30L立式砂磨機專為碳化硅材料研磨打造，依托無機封無篩網(wǎng)設計，完美解決傳統(tǒng)設備泄漏與堵塞痛點，實現(xiàn)納米級超細研磨 ，顆粒均勻性達D50<0.03μm，粒徑分布窄，助力材料性能突破。

徹底解決傳統(tǒng)砂磨機五大痛點

痛點一：（機械密封泄漏），傳統(tǒng)臥式砂磨機機封易磨損漏料、頻繁維修、更換；

叁星飛榮解決方案：無機封設計，永無泄漏、損壞、更換、維修的困擾。

痛點二：（篩網(wǎng)堵塞），傳統(tǒng)砂磨機分離網(wǎng)容易堵塞或者漏珠，需頻繁清理、更換分離網(wǎng)；

叁星飛榮解決方案：設置離心分離結構，無篩網(wǎng)，無堵塞、無需清理篩網(wǎng)及篩珠。

痛點三：（納米級研磨瓶頸），傳統(tǒng)砂磨機難以用超細微珠進行研磨，難以突破100nm極限；

叁星飛榮解決方案：離心分離結構，可用超細研磨介質0.05-2.0mm，可實現(xiàn)20nm以下超細研磨。

痛點四：（研磨效率低），傳統(tǒng)砂磨機不能實現(xiàn)磨腔內(nèi)的反復循環(huán)研磨，研磨效率較低；

叁星飛榮解決方案：設計磨腔內(nèi)的內(nèi)外研磨區(qū)，通過渦輪驅動流體在磨腔內(nèi)的內(nèi)外研磨區(qū)反復循環(huán)，一邊研磨一邊把磨腔內(nèi)最細的顆粒分離出去，減少研磨時間，防止過磨；大顆粒留在磨腔內(nèi)反復循環(huán)研磨，動力主要用在對大顆粒的有效研磨，效率比臥式機提高50%以上。

痛點五：（顆粒分布不均勻），傳統(tǒng)砂磨機研磨的產(chǎn)品顆粒不均勻，粒徑分布較寬；

叁星飛榮解決方案：由于離心分離的作用，磨腔內(nèi)最細的顆粒先被排出，被研磨時間短，無過磨；而大顆粒留在磨腔內(nèi)反復循環(huán)研磨，被研磨的時間較長，很快被磨細，最終得到顆粒很均勻、粒徑分布很窄的產(chǎn)品。

應用價值

此批設備將用于碳化硅在半導體等高端領域的關鍵制備環(huán)節(jié)，精準匹配材料高硬度、高導熱、輕量化等特性需求，賦能客戶產(chǎn)品競爭力。